Caracterisation Et Nettoyage Du Silicium : Caracterisation Physico-chimique Et Nettoyage Par Voie Humide
Christophe Wyon-Francois Tardif-Annie Baudrant
français | 29-01-2003 | 218 pages
9782746206052
Livre
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Brève description / annotation
Depuis la réalisation du premier circuit intégré il y a plus de quarante ans, les étapes de fabrication en micro-électronique sont restées les mêmes. Les procédés ont cependant considérablement évolué, dans l'objectif de diminuer toutes les dimensions, pour intégrer toujours plus. Des techniques nouvelles et complexes se cachent aujourd'hui derrière un procédé de fabrication. Le présent ouvrage passe en revue l'ensemble des étapes élémentaires : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Sont également présentées les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Chaque étape fait l'objet d'un chapitre : le procédé, les équipements et la physique des techniques y sont détaillés.
Détails
Code EAN : | 9782746206052 |
Editeur : | Hermes Science Publications |
Date de publication : | 29-01-2003 |
Format : | Livre |
Langue(s) : | français |
Hauteur : | 240 mm |
Largeur : | 160 mm |
Epaisseur : | 10 mm |
Poids : | 510 gr |
Stock : | en stock chez le fournisseur |
Nombre de pages : | 218 |
Collection : | Traite Egem - S |