Caracterisation Et Nettoyage Du Silicium : Caracterisation Physico-chimique Et Nettoyage Par Voie Humide

Christophe Wyon-Francois Tardif-Annie Baudrant


français | 29-01-2003 | 218 pages

9782746206052

Livre


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Brève description / annotation

Depuis la réalisation du premier circuit intégré il y a plus de quarante ans, les étapes de fabrication en micro-électronique sont restées les mêmes. Les procédés ont cependant considérablement évolué, dans l'objectif de diminuer toutes les dimensions, pour intégrer toujours plus. Des techniques nouvelles et complexes se cachent aujourd'hui derrière un procédé de fabrication. Le présent ouvrage passe en revue l'ensemble des étapes élémentaires : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Sont également présentées les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Chaque étape fait l'objet d'un chapitre : le procédé, les équipements et la physique des techniques y sont détaillés.

Détails

Code EAN :9782746206052
Auteur(trice): 
Editeur :Hermes Science Publications
Date de publication :  29-01-2003
Format :Livre
Langue(s) : français
Hauteur :240 mm
Largeur :160 mm
Epaisseur :10 mm
Poids :510 gr
Stock :en stock chez le fournisseur
Nombre de pages :218
Collection :  Traite Egem - S